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光學(xué)玻璃生產(chǎn)過程中的清洗技術(shù)

更新時(shí)間:2009-10-14      點(diǎn)擊次數(shù):3429

  光學(xué)玻璃生產(chǎn)過程中的清洗技術(shù)
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鍍膜前清洗
  鍍膜前清洗的主要污染物是求芯油(也稱磨邊油,求芯也稱定芯、取芯,指為了得到規(guī)定的半徑及芯精度而選用的工序)、手印、灰塵等。由于鍍膜工序?qū)︾R片潔凈度的要求極為嚴(yán)格,因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時(shí),還要考慮到他的腐蝕性等方面的問題。
  鍍膜前的清洗一般也采用與研磨后清洗相同的方式,分為溶劑清洗和半水基清洗等方式。工藝流程及所用化學(xué)藥劑類型如前所述。
  鍍膜后清洗
  一般包括涂墨前清洗、接合前清洗和組裝前清洗,其中接合前清洗(接合是指將兩片鏡片用光敏膠粘接成規(guī)定的形狀,以滿足無法一次加工成型的需求,或制造出較為特殊的曲率、透光率的一道工序)要求zui為嚴(yán)格。接合前要清洗的污染物主要是灰塵、手印等的混合物,清洗難度不大,但對(duì)于鏡片表面潔凈度有非常高的要求,其清洗方式與前面兩個(gè)清洗工藝相同。
  半水基清洗是近年來逐漸發(fā)展成熟的一種新工藝,它是在傳統(tǒng)溶劑清洗的基礎(chǔ)上進(jìn)行改進(jìn)而得來的。它有效地避免了溶劑的一些弱點(diǎn),可以做到無毒,氣味輕微,廢液可排入污水處理系統(tǒng);設(shè)備上的配套裝置更少;使用周期比溶劑要更長;在運(yùn)行成本上比溶劑更低。半水基清洗劑zui為突出的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)就是對(duì)于研磨粉等無機(jī)污染物具有良好的清洗效果,極大地緩解了后續(xù)單元水基清洗劑的清洗壓力,延長了水基清洗劑的使用壽命,減少了水基清洗劑的用量,降低了運(yùn)行成本。
  它的缺點(diǎn)就是清洗的速度比溶劑稍慢,并且必須要進(jìn)行漂洗。

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